溅射镀膜工艺的十大工艺特点

　　1、很多材料可以通过溅射沉积成薄膜材料，包括金属、合金、绝缘体等。

　　2、在适当的条件下，不同成分的靶材可以制成同种材料的薄膜。

　　3、在放电气氛中加入氧气或其他反应性气体，可以制备目标物质和气体分子的氧化物或其他化合物。

　　4、通过控制输入电流的大小和溅射时间的长短，可以获得高精度的薄膜。

　　5、对于大面积镀膜，溅射沉积绝对优于其他镀膜工艺。

　　6、在真空容器内，溅射粒子不受重力影响，靶材和基板的位置可以自由对齐。

　　7、溅射镀膜基板与薄膜的结合强度为一般蒸镀膜的10倍以上。此外，由于溅射粒子具有高能量，因此膜表面连续扩散以获得坚硬且致密的膜。同时，高能量可使基板在较低温度下获得结晶膜。

　　8、成膜初期的成核密度高，可制作10nm以下的极薄的连续膜。

　　9、溅射靶材使用寿命长，可长期连续生产。

　　10、溅射靶材可制成各种形状。通过靶材形状的特殊设计，可以更好地控制溅射过程，最有效地提高溅射效率。

　　本文polycold厂家爱加真空收集整理自网络，仅供学习和参考!