真空镀膜机的原理是怎样的？

　　真空镀膜机是现在制造真空条件使用最为广泛的真空设备，通常用真空室、真空机组、电气控制柜三大多数构成，排气体系选用“分散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”构成。

　　下面，详细介绍真空镀膜机的各部分构成及其作业原理。

　　一、真空主体——真空腔根据加工产品请求的各异，真空腔的巨细也不一样，现在使用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔体由不锈钢资料制造，请求不生锈、坚实等，真空腔各部分有衔接阀，用来衔接各抽气泵浦。

　　二、辅助抽气体系 ：排气体系为镀膜机真空体系的重要部分，首要有由机械泵、增压泵(首要介绍罗茨泵)、油分散泵三大多数构成。此排气体系选用“分散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”构成。

　　排气流程为：机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA摆布的低真空状况，为分散泵后继抽真空供给条件，以后当分散泵抽真空腔的时分，机械泵又合作油分散泵构成串联，以这么的办法完结抽气动作。

　　机械泵：也叫前级泵，机械泵是使用最广泛的一种低真空泵，它是用油来保持密封效果并依托机械的办法不断的改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断胀大然后获得真空。

　　1.机械泵的分类：机械泵有很多种，常用的有滑阀式(此首要使用于大型设备)、活塞往复式、定片式和旋片式(此现在使用最广泛，这篇文章首要介绍)四种类型。

　　2.机械泵是从大气开端作业的，它的首要参数有极限真空，抽气速率，此为规划与选用机械泵的重要依据。单级泵能够将容器从大气抽到1.0*10-1PA的极限真空，双级机械泵能够将容器从大气抽到6.7*10-2帕，甚至更高。

　　磁控溅射镀膜技术特征有哪些?

　　磁控溅射镀膜技术特征有哪些?磁控溅射镀膜是一种先进的表面装饰镀膜技术，在现今得到快速发展，先后出现了二极、三极、磁控和射频磁控溅射镀膜技术等。

　　在PVD技术发展的同时，中温PVD镀膜、低温PVD镀膜和低压PVD镀膜也相继问世，目的在于降低沉积温度，减小接口脆性相，降低反应气体用量，实现自动控制，提高镀层质量。PVD镀膜还利用其易于调控化学成分的特点在镀层类型和结构上也取得了新的发展。

　　磁控溅射镀膜技术它的性能比较单一，镀层TiC或者TIN有显著的提高。1978年又在上述镀层的基础上增加了化学稳定性更好的Al2O3镀层，厚度可达10mp，仍具有良好的结合力。目前PVD镀膜能够制备的硬质膜种类达几十种，并能制备三层以上的多层膜和梯度膜。

　　磁控溅射镀膜技术的主要特征便是PVD沉积技术进一步完善并扩大应用范围，等离子激活气相化学沉积(PVD镀膜)技术的产生，基础研究开始起步并日益受到重视。

　　PVD真空镀膜的特点是把辉光放电的物理过程和化学气相沉积相结合，所以具备PVD的低温性和PVD镀膜的绕镀性和易于调整化学成分和结构的性能，它有可能取代PVD和PVD镀膜工艺的某些镀膜范围。

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