真空镀膜技术
-
化学气相沉积（ CVD ）原理？
化学气相沉积技术，简称 CVD 技术。它是利用加热 、等离子体增强 、光辅助等手段在常压或低压条件下使气态物质通过化学反应在基体表面上制成固态薄膜的一种成膜技术。了解更多 -
真空状态下金属的物质蒸发原理
镀膜材料加热到一定温度时就会发生气化现象，也就是由固体状态或液体状态进入到气体状态，在真空条件下物质的蒸发比在常压下容易得多，所需的蒸发温度也大幅度下降，因此熔化蒸发时间可以缩短很多，蒸发效率明显地提高。了解更多 -
抽真空方法是怎样的？
首先检查真空容器所处状态，处于真空下或者处于大气中。决定了两种启动真空设备的程序：第一种，真空下操作程序。第二种，大气状态下操作程序。了解更多 -
2022年深圳国际真空展览会
2022年深圳国际真空展览会了解更多 -
真空容器怎样检漏？
目前, 对于外压容器及真空容器, 通常以内压(液压或气压) 进行压力试验, 这类容器的主要失效形式是失稳, 考核指标是容器的刚度,压力试验的结果是对容器强度及致密性的验证。了解更多